APP 指機器設備本身因素所產生的偽影。1.化學位移偽影指原子核因所處的分子環境不同,質子共振頻率出現差異而形成的圖像失真,稱為化學位移偽影。高場強MR機器比低場強MR機器化學位移偽影顯著,常發生在脂質含量差異較大的兩種組 （共 381 字） [閱讀本文] >>
海量資源，盡在掌握
指機器設備本身因素所產生的偽影。1.化學位移偽影指原子核因所處的分子環境不同,質子共振頻率出現差異而形成的圖像失真,稱為化學位移偽影。高場強MR機器比低場強MR機器化學位移偽影顯著,常發生在脂質含量差異較大的兩種組 （共 381 字） [閱讀本文] >>
開通會員，享受整站包年服務
說明： 本文檔由創作者上傳發布，版權歸屬創作者。若內容存在侵權，請點擊申訴舉報